
光源的工作原理通常为自发辐射,即原子或分子在激发后随机释放光子,导致光波相位不一致、方向杂乱,形成非相干光。
激光发射器基于受激辐射原理,当一个光子经过处于激发态的原子时,会诱发该原子释放出一个同频率、同相位、同方向的光子,形成链式反应,最终输出高度相干的激光束。
以下是两者在关键性能上的对比:
激光发射器用于微创手术(如眼科激光、皮肤病变切除),因精准聚焦可避免损伤周围组织;而普通光源仅用于照明或辅助观察。
激光发射器在金属切割、焊接、打标中广泛应用,凭借高能量密度实现快速高效加工;普通光源无法胜任此类高强度任务。
光纤通信系统中,激光发射器作为信息载体,可实现每秒太比特级的数据传输;而普通光源因带宽限制难以满足需求。
由于激光发射器具有极高能量密度,操作不当可能造成严重眼伤或皮肤灼伤,因此需配备安全防护装置(如自动关断、光束遮蔽)。相比之下,普通光源一般无此类风险。
虽然激光发射器初期投入较高(如驱动电路、冷却系统),但其使用寿命长、维护频率低,长期综合成本可能低于频繁更换的光源系统。
尽管光源与激光发射器都属于光输出设备,但在原理、性能、应用层面存在本质区别。选择何种设备应根据具体需求——若追求照明与环境美化,光源足矣;若涉及精密控制、高速通信或高能加工,则必须依赖激光发射器。
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